Импульсный станок лазерной очистки HTF Clean
Возможности станка:
- работа излучателя в импульсном режиме
- Удаление ржавчины, лакокрасочных покрытий, нефтяных и масляных загрязнений и т.п.
- Габариты и вес станка подходят для высотных работ
- Не перегревает обрабатываемую поверхность
- Реставрация памятников архитектуры и антикварных изделий
- Очистка въевшихся загрязнения на камне
- Возможность работать с деревянными покрытиями
- Очистка пресс-форм
От 85 до 100% Российских комплектующих!
Стоимость от 2 990 000 р.
Технические характеристики
БЕСПЛАТНЫЕ ОБРАЗЦЫ
Мы подготовим образцы по вашему ТЗ абсолютно бесплатно
срок подготовки 1 день
срок подготовки 1 день
Примеры работ
Посмотрите видео
Остались вопросы по оборудованию?
Оставьте ваш e-mail или телефон и мы отправим Вам информацию на почту или свяжемся с Вами
HTF Clean: Импульсный станок лазерной очистки - технический обзор и преимущества
Откройте для себя HTF Clean, передовой импульсный станок для лазерной очистки металла. Узнайте о его технических характеристиках, преимуществах перед непрерывным типом излучателя и процессе лазерного излучения.
Введение: Импульсный станок лазерной очистки
Импульсный станок лазерной очистки - это высокотехнологичное оборудование, используемое для точной и эффективной очистки металлических поверхностей. Одним из ведущих представителей этого класса оборудования является HTF Clean.
Преимущества импульсного станка перед непрерывным типом излучателя
Импульсный станок лазерной очистки, вроде HTF Clean, имеет несколько преимуществ по сравнению с непрерывными излучателями. Они предлагают большую мощность и эффективность в коротких периодах времени, что позволяет быстро и качественно очищать поверхности.
Производители лазерных излучателей для аппаратов лазерной очистки
HTF Clean использует лазерные излучатели от ведущих мировых производителей, таких как IPG, JPT и RAYCUS. Это обеспечивает надежность и продолжительный срок службы оборудования.
Процесс лазерного излучения и испарения загрязнений с металлов
Процесс лазерной очистки в HTF Clean основан на применении импульсного лазерного излучения. Он нагревает и испаряет загрязнения на поверхности металла, оставляя за собой чистую и гладкую поверхность. Этот процесс управляется компьютерной системой, которая обеспечивает высокую точность и контроль над процессом.
Технические характеристики HTF Clean
Мощность лазерного источника HTF Clean может варьироваться от 100 до 500 Вт, что обеспечивает большую гибкость при выполнении различных задач очистки. Частота импульсов, которую может генерировать этот станок, находится в диапазоне от 5 до 200 кГц, обеспечивая быстрое и эффективное удаление загрязнений. Важным параметром является энергия импульса, которая может достигать до 5 мДж.
Станок работает в импульсном режиме и использует источник излучения от IPG Photonics, зарекомендовавший себя на рынке как надежный производитель. Ресурс излучателя составляет до 100 000 часов, что обеспечивает долгосрочную работу оборудования без необходимости замены компонентов.
Тип охлаждения HTF Clean - воздушный, что упрощает процесс установки и эксплуатации станка. Вес установки может колебаться от 50 до 130 кг, что делает ее удобной для использования в различных условиях.
Заключение
HTF Clean - это высококачественный импульсный станок лазерной очистки, который сочетает в себе передовые технологии, надежность и удобство использования. Его технические характеристики и возможности делают его идеальным выбором для широкого круга промышленных предприятий, требующих эффективной и быстрой очистки металлических поверхностей.
Импульсный станок лазерной очистки - это высокотехнологичное оборудование, используемое для точной и эффективной очистки металлических поверхностей. Одним из ведущих представителей этого класса оборудования является HTF Clean.
Преимущества импульсного станка перед непрерывным типом излучателя
Импульсный станок лазерной очистки, вроде HTF Clean, имеет несколько преимуществ по сравнению с непрерывными излучателями. Они предлагают большую мощность и эффективность в коротких периодах времени, что позволяет быстро и качественно очищать поверхности.
Производители лазерных излучателей для аппаратов лазерной очистки
HTF Clean использует лазерные излучатели от ведущих мировых производителей, таких как IPG, JPT и RAYCUS. Это обеспечивает надежность и продолжительный срок службы оборудования.
Процесс лазерного излучения и испарения загрязнений с металлов
Процесс лазерной очистки в HTF Clean основан на применении импульсного лазерного излучения. Он нагревает и испаряет загрязнения на поверхности металла, оставляя за собой чистую и гладкую поверхность. Этот процесс управляется компьютерной системой, которая обеспечивает высокую точность и контроль над процессом.
Технические характеристики HTF Clean
Мощность лазерного источника HTF Clean может варьироваться от 100 до 500 Вт, что обеспечивает большую гибкость при выполнении различных задач очистки. Частота импульсов, которую может генерировать этот станок, находится в диапазоне от 5 до 200 кГц, обеспечивая быстрое и эффективное удаление загрязнений. Важным параметром является энергия импульса, которая может достигать до 5 мДж.
Станок работает в импульсном режиме и использует источник излучения от IPG Photonics, зарекомендовавший себя на рынке как надежный производитель. Ресурс излучателя составляет до 100 000 часов, что обеспечивает долгосрочную работу оборудования без необходимости замены компонентов.
Тип охлаждения HTF Clean - воздушный, что упрощает процесс установки и эксплуатации станка. Вес установки может колебаться от 50 до 130 кг, что делает ее удобной для использования в различных условиях.
Заключение
HTF Clean - это высококачественный импульсный станок лазерной очистки, который сочетает в себе передовые технологии, надежность и удобство использования. Его технические характеристики и возможности делают его идеальным выбором для широкого круга промышленных предприятий, требующих эффективной и быстрой очистки металлических поверхностей.